纳米压痕与刻划技术在表征TiN膜力学性能中的应用

摘要：

利用纳米压痕与刻划技术对TiN膜的力学性能进行了表征。结果表明,纳米压痕与刻划技术是测试TiN膜力学性能的有效手段。它可以在不分离薄膜和基底的情况下,排除基底效应的影响,准确测定TiN膜的硬度和杨氏模量;还可以评价TiN膜的抗划性能。利用离子溅射方法制备的厚度为3μm的TiN膜的硬度、杨氏模量和卸载临界载荷分别为24.91GPa、321.6GPa和162mN。

关键词： 纳米压痕 纳米刻划 力学性能 基底效应 抗划性能 离子溅射法 纳米薄膜

作者: 王秀芳 杨晓萍 史弼 宋洪伟

作者单位: 宝山钢铁股份有限公司技术中心,上海 201900

会议类型: 国内会议

会议名称: 第三届上海纳米科技与产业发展研讨会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 230-237

在线出版日期: 2006-05-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）