一种多皱纹纳米石墨片的制备及其工艺研究
在500℃下,采用PECVD法在以玻璃为衬底的多种金属镀层上成功制备出纳米石墨片。SEM分析表明,不同催化剂层上生长的二维纳米石墨片在形态上存在显著区别。在本文所涉及的工艺参数范围内,Ni/Zn复合金属镀层上二维纳米石墨片的生长效率最高,且在部分区域具有碳纳米墙形貌特征。TEM分析表明,所生长的二维纳米石墨片具有大量皱纹,且皱纹具有指纹形的石墨层状结构。纳米尺度的皱纹随机分布于整个二维纳米石墨片中,与超薄石肇烯自然形成的皱褶存在显著区别。根据指纹形皱纹的最大层数估计石墨片的厚度在10纳米左右。这种多皱纹纳米石墨片反映了催化剂对二维石墨生长的影响。这种材料除了可作为场发射冷阴极外,在催化剂载体以及气敏传感器等领域可能都有着重要应用。
射频等离子增强 化学气相淀积 PECVD法 碳纳米片 纳米石墨片 二维石墨生长
刘卫华 党涛 朱长纯
西安交通大学,电子与信息工程学院,陕西,西安咸宁西路28号 710049
国内会议
广州
中文
595-598
2008-11-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）