SiGe/Si分步布拉格反射镜材料的研究

摘要：

引入应力平衡的概念,成功地设计了真实衬底,模拟了Si/Si0.68Ge0.32的反射谱,并用MBE的方法在真实衬底上生长了高反射率Si/Si0.68Ge0.32反射镜,效率可达78％。X-ray双晶摇摆曲线表明,所得材料具有较高的质量,而倒易空间扫描图表明外延Si、Si0.68Ge0.32和Si0.853Ge0.147的中心并不在一条直线上,发现理论设计的应力平衡,在实际当中并没完全达到,生长参数还需要做进一步的调整。

关键词： 分步布拉格反射镜材料 双晶摇摆曲线 应力平衡

作者: 于丽娟 J.Zhang

作者单位: 中国科学院半导体所,北京 100083 Imperial College London,UK

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议

会议地点: 广州

会议语种:中文

页码: 899-901

在线出版日期: 2008-11-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）