宽禁带MgzZn1-zO薄膜的制备和性能研究
(0) 采用磁控溅射法、通过ZnO陶瓷靶和Mg金属靶在石英衬底上制备了MgxZn1-xO薄膜。研究了Mg原子含量对MgxZn1-xO薄膜结构和光学性能的影响。XRD测试结果表明：MgxZn1-xO薄膜在(0002)方向有明显的c轴择优取向；随着Mg原子含量的提高,薄膜由六角单相转化为六角相和立方相的混合相：MgxZn1-xO合金薄膜的透射谱表明：随着Mg原子含量的增加,薄膜的透射率略有下降,但在可见光区域的平均透射率仍大于85％；随着Mg原子含量的增加,吸收边逐渐蓝移,最短的吸收边为283nm。能隙宽度图表明：随着Mg原子含量的提高,MgxZn1-xO薄膜的能隙宽度从3.36 eV增加到4.27 eV。
z射线衍射 透射光谱 磁控溅射法 光学性能 薄膜结构 能隙宽度
盛国浩 贾芳 朱德亮 曹培江 吕有明 马晓翠
深圳大学,深圳市特种功能材料重点实验室,深圳 518060
国内会议
广州
中文
425-428
2008-11-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）