高方阻AZO透明导电薄膜的制备和光电特性
采用磁控溅射法,在硅和玻璃基片上制备了AZO(ZnO:Al)透明导电薄膜。通过X射线衍射仪、紫外/可见光分光光度计、荧光光谱仪和四极探针等仪器,研究了Al浓度对薄膜的微观结构和光电特性的影响。研究结果表明:AZO薄膜为纤锌矿结构且呈c轴择优取向,随着Al浓度的增加,(002)衍射峰强度逐渐减弱;在掺Al浓度小于4wt%时,薄膜在可见光范围内的平均透射率大于80%,方块电阻最小值达到514Ω/□,热稳定性小于20%;在室温下,观察到近带边发光蜂和绿光发光带。
光电特性 磁控溅射法 导电薄膜 透明薄膜 微观结构
叶家聪 李清华 贾芳 朱德亮 曹培江 吕有明 马晓翠
深圳大学材料学院,深圳市特种功能材料实验室,深圳 518060
国内会议
广州
中文
445-448
2008-11-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)