热壁LPCVD设备使用与维护技术

摘要：

文章就热壁LPCVD设备使用过程中出现的问题作了分析,提出了一些解决办法,并就设各易出现的故障及日常维护谈一点体会。

关键词： 热壁LPCVD 多晶硅 氮化硅 设备维护 故障处理

作者: 谭刚 吴嘉丽 李仁锋

作者单位: 中国工程物理研究院电子工程研究所

会议类型: 国内会议

会议名称: 四川省电子学会电子测量与仪器专委会2005年学术年会(第十二届)

会议地点: 四川绵阳

会议语种:中文

页码: 72-75

在线出版日期: 2005-09-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）