溅射功率对ZnO薄膜结构和发光性能的影响

摘要：

在玻璃衬底上采用射频磁控溅射法，固定其他工艺参数、改变溅射功率制备了ZnO薄膜。通过对薄膜进行XRD和室温光致发光(PL)谱测量，研究了溅射功率对ZnO薄膜结构和发光性能的影响及薄膜结构与发光性能两者之间的关系。溅射功率从20 W到180 W之间变化中，当溅射功率为100 W时结晶质量和发光性能均达到最优化。继续升高溅射功率时，结晶质量和发光性能都下降。

关键词： 磁控溅射 氧化锌薄膜 光致发光 溅射功率 发光性能 结晶质量 薄膜结构

作者: 肖锋伟 江洪湖 李倩 郑新亮

作者单位: 西北大学物理学系，陕西西安 710069

会议类型: 国内会议

会议名称: 陕西省物理学会2008年学术年会

会议地点: 西安

会议语种:中文

页码: 110-113

在线出版日期: 2008-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）