台灣奈米計量-尺寸參數標準之發展
「纳米技术计量标准研究」之目的为建立具良好追溯性的纳米标准与计量技术，发展以原子或分子为基础的计量标准，以为长期产业及经济发展奠基。本文介绍之纳米尺寸参数量测追溯着重於(1)纳米粒径标准，为结合电迁移率分析法(DMA)量测技术与电重力平衡法(EAB)量测技术之静电力分离法；(2)研究将以光散射的原理，作为晶圆表面纳米微粒量测技术，2007年已建立光学量测系统主架构；(3)薄膜膜厚量测，其量测范围为1～5 nm～200 nm之膜厚；(4)采用超细微探针之AFM，发展量测50 nm以下之线宽/线距量测技术。
薄膜膜厚 纳米粒径 电迁移率 电重力平衡法
劉惠中 陳朝榮 傅尉恩 林志明 劉承揚 潘善鵬 陳怡菁
工業技術研究院量測技術發展中心
国内会议
杭州
中文
151-159
2008-09-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）