低介电常数纯硅数分子筛薄膜的制备与表征

摘要：

介绍了一种制备具有低介电常数氧化硅分子筛薄膜的新方法.以正硅酸乙酯为硅源,四丙基氢氧化铵(TPAOH)为模板剂和碱源,采取水热晶化技术,通过原位法在硅晶片表面制备出纯二氧化硅透明分子筛薄膜；采用紫外光解法脱除分子筛薄膜孔道内的模板剂,制备出具有低介电性能的氧化硅分子筛薄膜.使用FT-IR,XRD和SEM对样品进行了结构表征,并采用阻抗分析仪测量了薄膜的介电常数,采用纳米硬度计测量薄膜的弹性模量和硬度.

关键词： 紫外光解法 有机模板剂 氧化硅分子筛薄膜 低介电常数 水热晶化 原位法

作者: 袁昊 解丽丽 田震 王利军

作者单位: 上海第二工业大学,城市建设与环境工程学院,上海,201209

会议类型: 国内会议

会议名称: 第七届中国国际纳米科技(武汉)研讨会

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 110-113

在线出版日期: 2008-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）