不同环境气压下激光沉积制备锗纳米薄膜的研究

摘要：

采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在不同环境压强下于室温Si衬底上沉积制备出了Ge纳米薄膜.用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)研究了环境压强对薄膜的微观结构、形貌以及膜厚的影响规律.结果表明:所制备的纳米薄膜中Ge均为晶态；随着环境压强的增大,薄膜表面由常规的量子点镶嵌结构演变为类网状结构；膜厚随着环境压强的增大而减小.

关键词： 脉冲激光沉积 锗纳米薄膜 环境压强 Si衬底 X射线衍射仪 微观结构

作者: 程成 薛催岭 宋仁国

作者单位: 浙江工业大学,应用物理系,杭州310023 浙江工业大学,机械制造及自动化教育部重点实验室,杭州,310014

会议类型: 国内会议

会议名称: 第七届中国国际纳米科技(武汉)研讨会

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 268-271

在线出版日期: 2008-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）