采用直流脉冲等离子体化学气相沉积制备的含氢非晶碳膜的应力释放行为

摘要：

采用直流脉冲等离子化学气相沉积技术在Si(100)衬底上制备含氢非晶碳膜，制备的薄膜采用拉曼谱对结构表征，采用扫描电镜对应力释放花纹进行表征。除了众所周知的正弦型和花状等应力释放花纹，两种不同的花状花纹被观察到，一种是环状和正弦相互竞争存在的花纹，一种是带小齿的陀螺型花纹。我们通过平板起皱理论对花纹进行了分析。

关键词： 直流脉冲等离子体 化学气相沉积 含氢非晶碳膜 应力释放行为 拉曼谱 平板起皱

作者: 王琦 王舟 张俊彦 贺德衍

作者单位: 中国科学院兰州化学物理研究所;兰州大学物理系 中国科学院兰州化学物理研究所 兰州大学物理系

会议类型: 国内会议

会议名称: 2009全国青年摩擦学学术会议

会议地点: 长沙

会议语种:中文

页码: 557-562

在线出版日期: 2009-05-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）