不同基底偏压对非晶碳薄膜摩擦学性能的影响

摘要：

本文在不同的基低偏压下，采用直流溅射石墨靶的方法制备了非晶碳薄膜。结果显示，随着基底偏压的升高，薄膜中的sp2石墨片状结构含量增加，同时变得更加有序;当基低偏压进一步升高时，薄膜中的sp2相呈下降趋势。摩擦学测试表明，随着基底偏压的增加，薄膜的摩擦系数呈先减小再升高的过程，这个变化趋势和薄膜内的sp2相含量变化趋势是相同的，可以归因为薄膜内部的排列更为有序的sp2石墨片状结构能减少摩擦时的剪切阻力，从而降低摩擦系数。

关键词： 直流溅射 石墨靶 非晶碳薄膜 摩擦学性能 剪切阻力

作者: 王舟 王琦 张俊彦

作者单位: 中国科学院兰州化学物理研究所,兰州 甘肃 730000 中国科学院兰州化学物理研究所,兰州 甘肃 730000;兰州大学物理系,兰州 甘肃 730000

会议类型: 国内会议

会议名称: 2009全国青年摩擦学学术会议

会议地点: 长沙

会议语种:中文

页码: 563-565

在线出版日期: 2009-05-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）