电子束纳米光刻技术研究

摘要：

纳米光刻技术在微电子制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之一.我们使用VB5电子束曝光系统,经过工艺研究,现已研究出最细分辨率剥离金属条为17nm,最小剥离电极间距为10nm,最细T型栅为100nm.

关键词： 电子束光刻 纳米图形 剥离技术 微电子制作 纳米光刻 曝光系统

作者: 刘玉贵 王维军 罗四维

作者单位: 中国电子科技集团公司第十三研究所,河北,石家庄,050051

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国微米/纳米第六届学术年会

会议地点: 太原

会议语种:中文

页码: 562-563

在线出版日期: 2003-08-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）