利用紫外光刻技术进行SU8胶的研究

摘要：

SU8光刻胶优异的性能在MEMS技术的发展重得到了广泛的应用,已经成为MEMS研究中必不可少的方法之一.SU8光刻胶能够进行厚度达毫米的结构研究工作,另一方面SU8结构具有很好的侧面垂直结构,通过控制工艺参数,能够获得满意的SU8胶结构.SU8光刻胶已应用于LIGA技术的标准化掩模制造工艺和一些器件的研究工作.在SU8胶研究过程中,克服了许多技术难题,使得这一技术能够应用到实际的需要中.

关键词： 微机电系统 微结构 紫外光刻 光刻胶

作者: 伊福廷 张菊芳 彭良强 韩勇

作者单位: 中科院高能物理研究所同步辐射室,北京,100039

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国微米/纳米第六届学术年会

会议地点: 太原

会议语种:中文

页码: 126-128,141

在线出版日期: 2003-08-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）