SU-8胶及其在MEMS中的应用
(0) SU-8胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶.它适于制超厚、高深宽比的MEMS微结构.SU-8胶在近紫外光范围内光吸收度低,故整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致,可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形;它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性; SU-8胶不导电,在电镀时可以直接作为绝缘体使用.由于它具有较多优点,被逐渐应用于MEMS的多个研究领域.本文主要分析SU-8胶的特点,介绍其在MEMS的一些主要应用,总结了我们研究的经验,以及面临的一些问题,并对厚胶技术在我国的应用提出建议和意见.
微机电系统 厚胶技术 近紫外线光刻 光刻胶 抗化学腐蚀性 热稳定性 力学性能
刘景全 蔡炳初 陈迪 朱军 赵小林 杨春生
上海交通大学微纳米科学技术研究院,上海,20030
国内会议
太原
中文
132-136
2003-08-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）