接近式光刻的计算机模拟研究

摘要：

分析了菲涅耳近似模型在接近式光刻模拟中的应用和误差起源,并根据光的标量衍射理论,对菲涅耳近似模型进行了修正,得到了更加准确的类菲涅耳近似模型;并对这两种模型的模拟结果进行了比较.

关键词： 接近式光刻 菲涅耳衍射 计算机模拟 光刻模拟

作者: 田学红 刘刚 田扬超 张新夷 张鹏

作者单位: 中国科学技术大学国家同步辐射实验室,安徽,合肥,230029 复旦大学同步辐射研究中心,上海,200433

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国微米/纳米第六届学术年会

会议地点: 太原

会议语种:中文

页码: 181-185

在线出版日期: 2003-08-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）