金属Cu表面三维齿状微图形的复制加工--约束刻蚀剂层技术(CELT)的应用
主要介绍了一种Cu的CELT加工的化学刻蚀体系和捕捉体系,并通过控制刻蚀时间、刻蚀电流、刻蚀剂浓度、捕捉剂浓度等实验参数和优化电化学模板的制作工艺, 以规整的齿状结构为模板, 在Cu的表面实现了三维微结构的复制加工,得到了与齿状结构模板互补的三维微结构,用SEM 和AFM对实验结果进行了表征,表征结果证明约束刻蚀剂层技术在金属三维加工方面的可行性和潜在优势.金属Cu由于具有优良的导热导电性能以及很好的延展性,在微系统(也称微机电系统)中应用广泛,因此对Cu的刻蚀加工对微系统技术的发展具有重要的意义.约束刻蚀剂层技术(Confined Etch-ant Layer Technique 简称CELT)作为一种新型的微加工技术”1”,能够加工复制出复杂三维结构,到目前为止,该技术已成功应用于Si 、GaAs等材料微结构的复制加工”2,3”.
微图形 复制加工 约束刻蚀剂 化学刻蚀 刻蚀体系
刘柱方 周兆英 田中群 蒋利民 汤儆 张力 田昭武 刘品宽 曲东升 孙立宁 叶雄英
厦门大学固体表面物理化学重点实验室化学系,福建,厦门,361006 清华大学精密仪器系,北京,100084 哈尔滨工业大学机器研究所,黑龙江,哈尔滨,150001
国内会议
太原
中文
265-266
2003-08-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）