紫外线厚胶光刻技术研究及应用

摘要：

紫外线厚胶光刻技术已广泛应用于3D微机械结构的制作.本文选用AZ4620和SU-8两种光刻厚胶,采用德国卡尔*休斯公司的MA-6双面对准光刻机,对紫外线光刻工艺条件进行了对比研究,结果表明,负性光刻胶SU-8的光敏性好,胶结构图形的侧墙较陡直,能够实现较大的深宽比,为复杂结构的三维微机械器件的制作提供了保证.

关键词： 紫外光刻 微机电系统 厚胶光刻 光刻胶 微机械器件 光敏性

作者: 李雯 谭智敏 薛昕 刘理天

作者单位: 清华大学微电子学研究所,北京,100084

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国微米/纳米第六届学术年会

会议地点: 太原

会议语种:中文

页码: 151-153

在线出版日期: 2003-08-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）