纳米线条电子束曝光工艺条件研究

摘要：

纳米线条在超导单光子探测、超导隧道结等超导电子学器件中具有广泛的应用。本文基于电子束曝光，实验上在大面积范围内获得了均匀的纳米线条。与此同时，对电子束曝光剂量、显影时间、光刻胶的旋涂等工艺条件进行了系统的研究。这些工艺条件的研究对后续超导电子学器件的制备具有一定的参考价值。

关键词： 纳米线条 电子束曝光工艺 超导单光子

作者: 钟扬音 张蜡宝 康琳 曹春海 吴培亨

作者单位: 南京大学超导电子研究所,南京,210093

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届全国超导薄膜和超导电子器件学术研讨会

会议地点: 大连

会议语种:中文

页码: 185-188

在线出版日期: 2008-10-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）