平面靶直流溅射制备YBCO高温超导薄膜研究

摘要：

本文开展了平面靶溅射法制备YBa2Cu3O7-δ(YBCO)高温超导薄膜工艺研究，以达到提高沉积速率的目的。本文通过增加工作气体总压(Pt)，采用基片旋转达到离轴溅射模式，有效地克服了传统平面靶直流溅射法中高能粒子轰击和负离子反溅射现象。在2英寸LaAlO3(LAO)基片上成功外延生长得到了微观结构良好、电学性能优越(临界电流密度Jc=2.3/2.0MA/cm2)的双面YBCO高温超导薄膜。

关键词： YBCO高温超导薄膜 平面靶直流溅射法 制备工艺 负离子反溅射 微观结构 电学性能

作者: 贺镜潭 熊杰 陶伯万 杜洪立 柴刚 肖山

作者单位: 电子薄膜与集成器件国家重点实验室,电子科技大学,成都,610054

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届全国超导薄膜和超导电子器件学术研讨会

会议地点: 大连

会议语种:中文

页码: 50-55

在线出版日期: 2008-10-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）