二维胶体刻蚀技术制备多元纳米图案化材料
在微观和介观范围内对材料表面结构和性质的微加工或图案化在当代科学和技术相关领域逐渐受到越来越多的关注，在超分子科学、材料科学，微电子学及细胞生物学等方面均有重要的科学意义和应用价值。本文通过二维有序胶体品体制备和加工技术，制备具有图案化结构的胶体晶体，利用刻蚀形成利于图案化的具有独特结构的胶体品体。通过对胶体品体模板的制备和微加工过程的控制，建立胶休品体的结构化特点与所形成图案的关系。在气相沉积过程中对入射角度和胶体晶体的方位角度进行调控，讨论这些条件的变化对在基材上形成的图案的影响，以及它们的边界条件。以特定的二维胶休晶体为模板，利用角度可控气相沉积技术分别得到了异质二元、三元纳米点阵和多元纳米线的阵列结构。
胶体刻蚀 二维胶体晶体 有序结构 图案化结构 纳米点阵
张刚 汪大洋 杨柏
吉林大学超分子结构与材料国家重点实验室,长春市前进大街2699号,130012
国内会议
贵阳
中文
248-249
2008-10-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）