芯片级平面环形微腔的表面优化处理研究

摘要：

基于MEMS工艺的平面环形微腔，由于特有的结构而拥有极高的品质因数和极低的模式体积而具有显著的量子效应，在光量子器件、光集成、光网络以及光量子计算机等信息领域有重要的应用。品质因数Q作为表征微腔质量的重要参量，主要受到微腔表面粗糙度的制约。本文介绍了一种环形微腔的表面处理方法：利用高功率CO2激光器进行微腔表面处理。实验结果证明：此方法不仅最终使得环形微腔成型，而且经高功率CO2激光器处理后的微腔表面光洁度明显提高。这对高Q值环形微腔的制备以及其在各个应用领域的应用有重要的意义。

关键词： 平面环形微腔 品质因数 表面处理 表面粗糙度 MEMS工艺 量子效应 CO2激光器

作者: 严英占 王少辉 姜国庆 熊继军 张文栋 闫树斌

作者单位: 中北大学电子测试技术国防重点实验室，仪器科学与动态测试教育部重点实验室太原030051

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国兵工学会第十四届测试技术年会暨中国高等教育学会第二届仪器科学及测控技术年会

会议地点: 吉林延吉

会议语种:中文

页码: 1-5

在线出版日期: 2008-07-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）