聚焦离子束在LiNbO3及KTP等晶体上的亚微米刻蚀研究

摘要：

聚焦离子束(focused ion beam，简写FIB)是一个微纳加工和观察分析设备。在强电场下金属离子溢出液态离子源，形成束流，经光圈限束、加速、聚焦、象散校正、偏转，打到样品指定点上。利用其溅射效应，FIB可用于样品表面亚微米尺寸的刻蚀，控制其扫描路径可以在无掩模下刻蚀任意图形。选择束流、加速电压和时间可以得到不同深度、不同纵深比的刻蚀。但是溅射原子容易再沉积，影响刻蚀纵深比并阻止进一步刻蚀。采用辅助气体可改善这种状况。选择某种气体在刻蚀过程中喷到样品表面刻蚀区，高能粒子束诱发气体原子与溅射原子反应生成挥发物质而被带走，进而降低再沉积。它不仅能提高刻蚀速率，而且能增加刻蚀纵深比。

关键词： 聚焦离子束 亚微米刻蚀 微纳加工 离子源 溅射效应

作者: 黄庆 刘鹏 王晨 王雪林 徐雪峰 颜莎

作者单位: 山东大学物理学院,济南,250100 北京大学物理学院,北京,100871

会议类型: 国内会议

会议名称: 全国第十二届电子束离子束学术年会、第九届电子束焊接学术交流会、第十一届离子源学术交流会、高能束加工技术研讨会、第十届粒子加速器学术交流会暨荷电粒子源、粒子束会议

会议地点: 哈尔滨

会议语种:中文

页码: 1-1

在线出版日期: 2008-09-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）