高结合强度类金刚石膜的制备与性能研究

摘要：

磁过滤阴极弧沉积技术可以在室温下制备高质量类金刚石薄膜，薄膜的sp3 键含量高达 85％，具有优异的性能如极高的硬度，低的摩擦系数和高的化学稳定性，因而是耐磨表面保护薄膜的理想选择，在光学、机械、航空航天和军工等领域有着广阔的应用前景。但由这种于薄膜存在内应力问题，使薄膜容易产生剥落问题。本文采用MEVVA 离子注入技术和磁过滤阴极弧沉积技术相结合在几种衬底表面(单晶硅、Ti6Al4V 合金和硬质合金)制备厚度 2-6 微米的高结合强度类金刚石薄膜，采用X 射线光电子能谱和拉曼光谱等分析手段研究了 MEVVA 离子注入DLC 薄膜后的结构变化，硬度测试结果表明DLC 薄膜具有极高的硬度其硬度值可以达到70Gpa，远远高于衬底材料的硬度值。

关键词： 磁过滤 类金刚石膜 阴极弧沉积 摩擦系数 化学稳定性 离子注入 硬度测试

作者: 张旭 吴先映 吴正龙 徐元直 李强 覃礼钊 张荟星

作者单位: 北京师范大学低能核物理研究所, 北京市辐射中心,100875,北京

会议类型: 国内会议

会议名称: 全国第十二届电子束离子束学术年会、第九届电子束焊接学术交流会、第十一届离子源学术交流会、高能束加工技术研讨会、第十届粒子加速器学术交流会暨荷电粒子源、粒子束会议

会议地点: 哈尔滨

会议语种:中文

页码: 1-4

在线出版日期: 2008-09-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）