多弧－中频磁控溅射沉积Ti-Si-N结构与性能

摘要：

设计了一套多弧结合非平衡中频磁控溅射装置，磁控靶采用内外孪生对靶，并设计成矩形靶，在单晶硅和硬质合金衬底上沉积了Ti-Si-N 纳米复合涂层，系统研究了衬底偏压和Si 靶溅射电流对涂层的影响，在偏压150V、Si 靶电流15A优化条件下，得到了Si含量为6.3at％Ti-Si-N 涂层，其结构为纳米TiN 颗粒镶嵌于非晶Si3N4 基体，涂层的显微硬度达到40GPa。

关键词： 磁控溅射 纳米复合涂层 磁控靶 单晶硅 硬质合金

作者: 杨种田 杨兵 周霖 刘传胜 叶明生 付德君

作者单位: 武汉大学加速器实验室

会议类型: 国内会议

会议名称: 全国第十二届电子束离子束学术年会、第九届电子束焊接学术交流会、第十一届离子源学术交流会、高能束加工技术研讨会、第十届粒子加速器学术交流会暨荷电粒子源、粒子束会议

会议地点: 哈尔滨

会议语种:中文

页码: 1-5

在线出版日期: 2008-09-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）