离子束技术挑战浅结工艺的发展态势及启示

摘要：

今年6月间在美国加州蒙特雷举办了第17 届国际离子注入技术大会(IIT2008),也是这个系列会议的30 周年大会.参加会议的有260 多人,会上特邀报告9个,口头报告57个,大字报 107 篇. 会议期间还有众多半导体厂商参加的离子注入工艺设备与技术展览会.

关键词： 离子注入 注入工艺 浅结工艺 离子束

作者: 赵渭江

作者单位: 北京大学重离子物理研究所

会议类型: 国内会议

会议名称: 全国第十二届电子束离子束学术年会、第九届电子束焊接学术交流会、第十一届离子源学术交流会、高能束加工技术研讨会、第十届粒子加速器学术交流会暨荷电粒子源、粒子束会议

会议地点: 哈尔滨

会议语种:中文

页码: 1-1

在线出版日期: 2008-09-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）