100型MEVVA源离子注入机

提高金属蒸汽真空弧(Metal vapor vacuum arc,MEVVA)离子源注入机的注入效率,大幅度降低注入成本是MEVVA 源离子注入技术实用化的关键。为此设计研制了采用高占空比、大引出面积、凸形高透过率引出电极等技术的100型MEVVA 源注入机。本文介绍了100型MEVVA 源注入机的靶室结构和靶盘分布,100型MEVVA 离子源的结构特点,测试了100型MEVVA 源的主要参数,通过靶盘公转自转、0°定位自转与45°定位自转的复合注入,得到了相当均匀的大面积注入效果。从而为实现工业规模的金属离子注入提供了注入平台。
金属蒸汽真空弧 离子注入 凸形电极 注入均匀性 注入效率
吴先映 李强 张荟星 刘安东 彭建华
射线束技术与材料改性教育部重点实验室,北京师范大学核科学与技术学院(低能核物理研究所),100875
国内会议
全国第十二届电子束离子束学术年会、第九届电子束焊接学术交流会、第十一届离子源学术交流会、高能束加工技术研讨会、第十届粒子加速器学术交流会暨荷电粒子源、粒子束会议
哈尔滨
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2008-09-17(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)