缠绕式射频磁控溅射PET表面沉积SiO2薄膜的研究

摘要：

本文使用东方盖德公司生产的缠绕式射频磁控溅射设备进行了磁控溅射薄膜沉积的研究，探讨了预溅射、功率和工作气压的影响情况，阐述了SiOx膜的表面形貌，对薄膜组成结构进行了分析，浅谈了阻隔性的测试结果。

关键词： 射频磁控溅射 SiO2薄膜 表面沉积 表面形貌

作者: 刘壮 林晶 孙智慧 高德

作者单位: 哈尔滨商业大学，哈尔滨：150028

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国真空学会2008年学术年会

会议地点: 昆明

会议语种:中文

页码: 136

在线出版日期: 2008-10-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）