等离子体显示器中ITO电极的制作方法比较

摘要：

在PDP屏制作ITO膜的制作工艺方法主要有光刻蚀法、掩膜法、激光干式刻蚀法、丝网印刷法以及荫罩透过沉积法这几种方法，本文对光刻蚀法、掩膜法、激光干式刻蚀法、丝网印刷法以及荫罩透过沉积法等方法分别进行了介绍。

关键词： 等离子体显示器 ITO电极 制作方法

作者: 张劲涛 卜忍安 王文江

作者单位: 西安交通大学 电子物理与器件教育部重点实验室，陕西 西安 710049

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国真空学会2008年学术年会

会议地点: 昆明

会议语种:中文

页码: 91

在线出版日期: 2008-10-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）