循环氩离子轰击对等离子体增强休学气相沉积(PECVD)TiN膜耐腐蚀性能的影响

摘要：

该研究设计了循环氩离子轰击-PECVD TiN工艺。运用扫描电子显微镜、能谱仪、恒电位仪等仪器设备，研究循环氩离子轰击对PECVD TiN膜耐腐蚀性能的影响及作用机理。结果表明：循环氩离子轰击强化了沉积中的反应，提高了TiN膜的致密性，细化了TiN晶粒，养活了膜内缺陷，降低了膜层中的残余氯含量，从而提高了膜层在硝酸和硫酸中的耐腐蚀性能。

关键词： PECVD TiN膜 耐蚀性 Ar轰击

作者: 谢飞 何家文

作者单位: 江苏石油化工学院机械工程系(江苏常州) 西安交通大学材料科学与工程学院(陕西西安)

会议类型: 国内会议

会议名称: ”99中国国际腐蚀控制大会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 214-217

在线出版日期: 1999-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）