热处理对PCVD-TiN涂层的影响

摘要：

该文描述了在Crl2钢基体上用PCVD法沉积TiN涂层后，再进行热处理强化基体的研究。结果表明，热处理后，PCVD-TiN涂层的显微硬度略有提高。X射线衍射分析表明，经过热处理后，PCVD-TiN涂层的晶体结构更趋于完整，其晶面间距也更接近或达到TiN晶面间距的标准值。同时，PCVD-TiN涂层的致密性有所增加，其（200）晶面结构有所增强。而且，经过热处理后PCVD-TiN涂层与基体结合良好。_

关键词： PCVD－TiN涂层 热处理 X射线衍射分析

作者: 彭红瑞 赵程

作者单位: 化工学院等离子体表面技术研究所

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届全国高技术陶瓷学术年会

会议地点: 青岛

会议语种:中文

页码: 748～751

在线出版日期: 1998-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）