会议专题

双频电子束云纹光栅的制作工艺研究

该文首次提出三镀层制作双频电子束云纹光栅的新工艺,文中对制栅工艺的原理、过程进行了探讨。本制栅工艺适用于制作0.1μm至25μm范围内所选定频率的双频光栅。

电子束云纹法 三镀层双频光栅 电子束刻蚀法

谢惠民 戴福隆 王朝阳 岸本哲

清华大学工程力学系

国内会议

第九届全国实验力学学术会议

广州

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274-277

2000-01-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)