亚微米级电子束云纹光栅的研制及应用

摘要：

该文提出应用单镀层和双镀层光刻法制作电子束云纹光栅的新工艺，对电子束光刻制栅设备、电子束云的形成机理进行了介绍。作者成功地研制出单镀层10000线/毫米的光栅。本文还应用所制的单镀层、双镀层光栅进行了800℃高温实验。实验结果表明，光栅具有较好的抗氧化能力。

关键词： 电子束云纹法 单镀层光栅 双镀层光栅 电子束光刻胶

作者: 戴福隆 谢惠民 王朝阳 岸本哲

作者单位: 清华大学工程力学系

会议类型: 国内会议

会议名称: 第九届全国实验力学学术会议

会议地点: 广州

会议语种:中文

页码: 282-285

在线出版日期: 2000-01-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）