国产MOCVD设备的特点、性能及发展趋势

摘要：

本文介绍了我国第一代生产型(3片2英寸衬底)MOCVD设备的设计思想、机械性能以及设备使用情况；第二代生产型(6片2英寸衬底)MOCVD设备的设计思想；以及以后国产MOCVD设备的发展趋势。

关键词： MOCVD 设备特点 机械性能

作者: 刘祥林 焦春美

作者单位: 中国科学院半导体研究所,北京912信箱 100083

会议类型: 国内会议

会议名称: 2004年高大功率LED外延及芯片技术研讨会

会议地点: 南昌

会议语种:中文

页码: 30-44

在线出版日期: 2004-09-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）