腐蚀、磨损对镍-钨合金电沉积层表面结构的影响

摘要：

采用X-射线光电子能谱分析了高硬度Ni-W合金电沉积层在腐蚀、磨损实验后其表面结构状态，揭示了镍-钨合金电沉积层的耐磨、耐蚀机理。结果表明镍-钨合金沉积层在1moL/LH2So4 溶液中浸泡15 h表面主要由NiO、NiOH2、WO2、WO3物种构成，该钝化膜呈多层结构，在距离表面1.5nm处，镍，钨都以金属单质态存在。在载荷980g，线速度为O.1脚/8摩擦磨损4 h后其表面生成了自润滑薄膜，该薄膜由Nio、Ni2：o3、WO2以及WO，物种构成。

关键词： 镍-钨合金 电沉积 磨损 腐蚀 表面结构

作者: 黄令 江宏宏 杨防祖 许书楷 周绍民

作者单位: 厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室物理化学研究所厦门361005

会议类型: 国内会议

会议名称: 第八届全国电镀与精饰学术年会

会议地点: 杭州

会议语种:中文

页码: 90-92

在线出版日期: 2004-09-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）