电子束光刻技术

摘要：

为适应我国开展亚微米、深亚微米以至纳米级光刻技术的研究和开发的需要，吕国科学院微电子中心近期引进了ＪＢＸ－５０００ＬＳ电子束光刻系统，着重介绍利用该设备开展电子束直写及超微细加工技术研究中遇到的几个关键问题，包括电子束与光学曝光系统匹配和混合光刻技术、电子束曝光邻近效应校正技术和电子束抗蚀剂应用技术。

关键词： 电子束光刻 直写 混合光刻 邻近效应 抗蚀剂

作者: 陈宝钦 刘明 梁俊厚 韩郑生 张建宏

作者单位: 科学院微电子中心(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 长沙

会议语种:中文

页码: 48～54

在线出版日期: 1999-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）