电子束光刻和光学光刻混合使用与匹配

摘要：

结合电子束光刻超微细图形加工的能力和光学光刻高生产效率的优势，进行新的器件和集成电路开发是一个新的研究方向。二者混合使用与匹配的最关键问题是图形套准问题，通过实验我们已获得初步成果。

关键词： 电子束光刻 光学步进光刻 混合使用 混合匹配 套准

作者: 韩郑生 钱鹤 陈宝饮 刘明 徐秋霞

作者单位: 科学院微电子中心(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 长沙

会议语种:中文

页码: 62～63

在线出版日期: 1999-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）