采用拉曼光谱研究硅烷浓度对硅薄膜结构的影响

摘要：

采用等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术,在一定功率和气压下,在玻璃衬底上制备了不同硅烷浓度的Si薄膜材料.使用拉曼光谱对薄膜材料的结构进行了研究.结果表明Si薄膜的结构随H稀释的加大逐渐由非晶向微晶转变.

关键词： 等离子体增强 化学气相沉积 硅薄膜 拉曼光谱 薄膜结构

作者: 张乾 高杨 张建新 张维连

作者单位: 河北工业大学材料科学与工程,天津 300000

会议类型: 国内会议

会议名称: 第11届全国固体薄膜会议

会议地点: 杭州

会议语种:中文

页码: 76-79

在线出版日期: 2008-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）