硼氧离子共注入金刚石薄膜的微结构特性
(0) 采用扫描电镜(SEM),原子力显微镜(AFM),Raman光谱和X射线光电谱(XPS)研究了硼氧离子共注入对金刚石薄膜微结构的影响.结果表明,硼氧离子注入并在1000℃退火后,金刚石薄膜中晶粒取向由以(110)面为主转变为以(111)面为主;薄膜的均方根粗糙度随离子注入剂量的增大而增加.Raman光谱测试表明,离子注入后,薄膜内应力由拉应力转变为压应力,金刚石纯度降低;退火后,薄膜内应力再转变为拉应力,金刚石纯度为99.8％以上.XPS测试表明,C1s中心能级曲线偏离了对称Gauss线形,薄膜中形成了C-O键;氧单注入金刚石薄膜的O1s中心能级曲线呈对称Gauss线形,而硼氧共注入样品的O1s中心能级曲线偏离了对称Gauss线形,预示硼的加入影响了薄膜中氧的成键状态.
金刚石薄膜 离子共注入 微结构 扫描电镜 原子力显微镜
胡晓君
浙江工业大学化学工程与材料学院 浙江杭州 310014
国内会议
杭州
中文
69-75
2008-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）