氧氩比对本征氧化锌薄膜结构及表面形貌的影响

摘要：

采用RF磁控溅射方法在玻璃衬底上制备本征ZnO(i-ZnO)薄膜,利用XRD和SEM研究了氧氩比(O2/(O2+Ar))对薄膜结构性能及表面形貌的影响,结果表明,O2/(O2+Ar)比对i-ZnO薄膜的结构性能的影响十分显著,随着,O2/(O2+Ar)比的升高,薄膜的结晶性能呈现出了规律性的变化,在,O2/(O2+Ar)比为20％时,薄膜的c轴取向最好,晶面间距最接近标准i-ZnO晶面间距(0.2603nm),晶粒尺寸最大,为51.75nm.i-ZnO薄膜表面形貌随着O2/(O2+Ar)比的增加变得致密,平滑。

关键词： 磁控溅射 氧化锌薄膜 表面形貌 氧氩比

作者: 欧阳紫靛 张治安 赖延清 李劼 刘业翔

作者单位: 中南大学冶金科学与工程学院 湖南省长沙市 410012

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届中国太阳能光伏会议

会议地点: 常州

会议语种:中文

页码: 600-603

在线出版日期: 2008-09-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）