Ce3+注入掺杂金刚石薄膜电致发光研究

摘要：

利用微波等离子体化学气相沉积设备在高掺杂硅衬底上沉积一层金刚石薄膜,然后采用离子注入法在金刚石薄膜中注入不同剂量的从而制备出了Ce3+掺杂金刚石薄膜,研究了其电致发光特性,得到了发光主峰位于蓝紫区(476nm和435nm处)的光发射.实验中发现随着Ce3+注入剂量的增加,电致发光强度也随之增加,同时对这些实验现象作了解释.

关键词： 掺杂金刚石薄膜 电致发光 离子注入法 微波等离子体 化学气相沉积

作者: 王小平 张雷 段新超 王丽军 王隆洋 雷通 吕承瑞

作者单位: 上海理工大学理学院 上海,200093

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十七届全国原子、原子核物理研讨会暨全国近代物理研究会第十届年会

会议地点: 山东泰安

会议语种:中文

页码: 1-5

在线出版日期: 2008-07-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）