清洗刻蚀源的磁场分析

摘要：

一个离子源中电磁场的设计好坏与否决定了这个离子源工作的好坏。本文着重分析介绍了一个适用于清洗和刻蚀用的大束密均匀区双发射离子束源的磁场计算、结构及其工作原理,根据磁路理论,并利用Quickfield二维有限元分析软件对电磁场分布进行模拟,计算结果满足了离子源对电磁场的设计要求。

关键词： 芯片刻蚀 离子束源 磁场计算 有限元分析

作者: 王稳奇 朱昌

作者单位: 西安工业大学 陕西省薄膜技术重点实验室 西安 710032

会议类型: 国内会议

会议名称: 第19届中国过程控制会议

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 45-47

在线出版日期: 2008-07-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）