射频溅射立方氮化硼薄膜的光谱研究

摘要：

本文使用射频(13.56 MHz)溅射两步法,分别在电阻率为5～6Ω·cm的n型Si(111)衬底和熔融的石英衬底上成功制备出立方相含量为66％的立方氮化硼(c-BN)薄膜。薄膜成分由傅里叶变换红外吸收谱(FTIR)标识，用紫外-可见分光光度计分别测量了石英衬底上BN薄膜的透射光谱T(λ)与反射光谱R(λ)，台阶仪测得薄膜厚度约为400 nm，利用透射光谱和反射光谱研究了BN薄膜的光学性质,计算了BN薄膜的光吸收系数α、光学带隙Eg和折射率n。

关键词： 氮化硼薄膜 薄膜光学 红外光谱 紫外光谱

作者: 姚倩 邓金祥 张晓康 汪旭洋 杨萍 陈光华

作者单位: 北京工业大学应用数理学院,北京 100124 北京工业大学材料学院,北京 100124

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十五届全国分子光谱学学术会议

会议地点: 泉州

会议语种:中文

页码: 437-438

在线出版日期: 2008-10-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）