多孔硅的制备及应用

摘要：

对目前国内外制备多孔硅的几种主要方法:电化学方法、光化学方法、刻蚀法、水热腐蚀法等进行了介绍,并简单比较分析了各自的有缺点.多孔硅由于其独特的物理、化学和光学性能,在发光二极管(LED)、光电探测器、集成电路(SOI)、传感技术上有着广泛的应用.

关键词： 多孔硅 制备工艺 电化学性能 水热腐蚀

作者: 马婷婷 马文会 陈秀华 吴兴惠 戴永年

作者单位: 昆明理工大学材料与冶金工程学院,云南 昆明 650093 昆明理工大学真空冶金国家工程实验室,云南 昆明 650093 云南大学物理科学技术学院,云南 昆明 650091

会议类型: 国内会议

会议名称: 2008年全国冶金物理化学学术会议

会议地点: 贵阳

会议语种:中文

页码: 448-455

在线出版日期: 2008-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）