氧化锌纳米薄膜气敏性质的研究
用气体放电活化反应蒸气沉积技术(GDARE)制备了纳米ZnO薄膜,并用XRD与AFM分析其晶体结构并表征其表面形貌.测试了其在不同温度下对于酒精的气敏性能,发现该ZnO纳米薄膜的最佳工作温度为210℃左右.
纳米薄膜 气敏特性 氧化锌 气体放电 活化反应 蒸气沉积 晶体结构 表面形貌
周康夫 陆慧 杨晓玲 朱以华
华东理工大学材料科学与工程学院超细材料制备与应用教育部重点实验室,上海 200237
国内会议
上海
中文
72-75
2008-12-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)