光照不均匀的干涉条纹校正新方法

摘要：

光照不均匀的干涉条纹校正是干涉条纹图像处理中的一个难题.理论分析了产生照度不均匀的原因,提出了采用同态滤波技术进行干涉条纹校正.通过计算机模拟验证,该方法不仅编程简单,而且校正效果好,是一种有效的干涉条纹预处理方法.

关键词： 干涉条纹 光照不均匀 同态滤波 图像处理 条纹校正

作者: 周战荣 赵晓铭 刘皓淳 张瑜 郑立林

作者单位: 第二炮兵工程学院物理教研室,西安,710025

会议类型: 国内会议

会议名称: 2008中国兵工光学与光电子学学术交流会

会议地点: 宜昌

会议语种:中文

页码: 65-66

在线出版日期: 2008-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）