溅射制备Ni-Mn-Ga磁性形状记忆合金薄膜的组织结构研究

摘要：

本文采用磁控溅射法制备Ni-Mn-Ga磁性形状记忆合金薄膜,并将制备薄膜在不同的温度下进行真空热处理，研究了不同工艺条件下制备薄膜的结构、形貌和磁性。结果表明：采用磁控溅射在单晶Si基底上溅射Ni-Mn-Ga磁性形状记忆合金薄膜,主要为沿基底法线方向的柱状晶结构,随着热处理温度提高,薄膜晶化程度提高,沉积在Cu基底上的薄膜磁性优于沉积在Si基底上薄膜的磁性。

关键词： 合金薄膜 形状记忆 薄膜制备 磁控溅射

作者: 何亮 钱士强 卢寅蓓 李莱芝

作者单位: 上海工程技术大学材料工程学院,上海,201620

会议类型: 国内会议

会议名称: 2008 SAMPE中国国际先进材料与工艺技术展览暨研讨会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 168-170

在线出版日期: 2008-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）