H2S应力腐蚀开裂断口分析

摘要：

应用扫描电镜对H2S应力腐蚀后的样品断口处进行形貌分析，结果表明试样断口近边缘部分有B类夹杂物存在，氢在夹杂物处聚集，并成为应力集中源和裂纹开裂源，在氢和应力的共同作用下，在夹杂缺陷部位形成氢脆缺陷，造成缺陷部位基体脆化，减少试样有效受力面积，导致裂纹快速扩展、试样早期断裂。

关键词： 硫化物 应力腐蚀 扫描电镜 夹杂物 腐蚀开裂 开裂断口 断口分析

作者: 李艳 王庆国 郑飞 朱群星 许文妍

作者单位: 天津钢管集团股份有限公司技术中心,天津30030

会议类型: 国内会议

会议名称: 2007年全国氢脆与应力腐蚀及工程应用学术研讨会

会议地点: 四川江油

会议语种:中文

在线出版日期: 2007-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）