离子色谱法检测四甲基氢氧化铵原料中痕量离子

摘要：

四甲基氢氧化铵在电子行业有着广泛的用途，纯度要求高，而电解原料中的杂质离子含量直接会对其纯度产生影响。本文采用离子色谱法分析原料四甲基氯化铵中痕量金属离子及四甲基碳酸氢铵中氯离子。考察原料稀释倍数，淋洗液流速，抑制器电流对检测的影响，得出四甲基氯化铵稀释1000倍进样，淋洗液流速选为1mL/min，抑制器电流50mA-60mA检测较佳。而分析四甲基碳酸氢铵不宜稀释过小倍数。

关键词： 四甲基氢氧化铵 杂质离子 痕量离子 离子色谱法

作者: 周金金 张新胜 王伟

作者单位: 化学工程联合国家重点实验室，联合化学反应工程研究所，华东理工大学，上海 200237

会议类型: 国内会议

会议名称: 第12届全国离子色谱学术报告会

会议地点: 厦门

会议语种:中文

页码: 245-249

在线出版日期: 2008-11-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）