U薄膜分析样制备技术研究
采用Ar+离子束对U薄膜表面进行反应溅射，通过白光干涉仪和台阶仪的测量与分析,着重研究Ar+离子束溅射能量、入射角度对其表面粗糙度Ra的影响，并与Ar+离子束刻蚀实验的比对：结果表明，以30°角入射，随溅射时间的增加,能量为0.5kev的Ar+离子束较1.0keV.U薄膜表面租糙度趋于减小，表面愈光滑，溅射深度仅限于纳米级,而对金属Mo的刻蚀效果相比与之相反.Ar+离子束溅射对材料表面具有纳米级超精细抛光的效果。辅之于离子束微米级刻蚀减薄，将有助于U薄膜表面精细加工.
离子束刻蚀 反应溅射 U薄膜 表面粗糙度 超精细抛光 精细加工
张厚亮 吕学超 任大鹏 李嵘 赖新春 杨兴文
中国工程物理研究院四川绵阳621900
国内会议
乌鲁木齐
中文
968-970
2008-07-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）